1020 Plasma Cleaner Fischione - установка плазменной очистки

1020 Plasma Cleaner Fischione предназначена для плазменной очистки образцов непосредственно перед загрузкой в электронный микроскоп, удаления углеродосодержащих частиц для предотвращения их осаждения на поверхность образца в процессе формирования изображений или аналитических исследований. Система поддерживает следующие процессы:

Очистка образцов для просвечивающей и сканирующей электронной микроскопии одновременно с соответствующими держателями
Повышение качества изображений и эффективности аналитических исследований
Удаление ранее возникших углеродосодержащих загрязнений
Предотвращение последующих загрязнений
Отсутствие травления или осаждения материалов
Хранение в чистом вакууме
В установке плазменной очистки 1020 используется неравновесная высокочастотная плазма. Она образуется в результате взаимодействия свободных электронов, разогнанных с помощью осциллирующего электромагнитного поля до высоких скоростей, с атомами газа. Ионы плазмы, которые достигают поверхности образца, имеют энергию менее 12 эВ, что позволяет избежать заметного воздействия ионов на исследуемый материал.

Очистка происходит в ходе реактивного плазменного травления, когда компоненты рабочего газа вступают в химическую реакцию с углеродосодержащими веществами на образце или держателе.  

Для оптимальной очистки компания Fischione рекомендует использовать газовую смесь, состоящую из 25% кислорода и 75% аргона. Кислородная плазма обладает высокой эффективностью устранения органических (углеводородных) загрязнений. В результате реакции образуются H2O, CO, и CO2, которые откачиваются из камеры вакуумной системой.